Nečistoće vanadijuma u titanijumska cijev su uglavnom VOCl3 i mala količina VCI4. Njihovo prisustvo čini da cijev od legure titana TC4 izgleda žuto. Svrha rafiniranja vanadijuma nije samo obezbojenje već i uklanjanje kiseonika. Ovo je izuzetno važan korak u procesu rafiniranja.
Razlika u tački ključanja i relativna volatilnost titanijumskih cevi a nečistoće vanadijuma su relativno male. Na primjer, razlika u tački ključanja između dvije komponente serija titanijumske cevi-VOCl3 je 10°C, a relativna volatilnost d=1.22; dok u TC4 titanijumskoj leguri cijev-VCl4 seriji, dvije komponente Razlika u tački ključanja je 14 stepeni Celzijusa. Bez obzira na to, teoretski je moguće koristiti fizičke metode za uklanjanje nečistoća vanadija, kao što je korištenje visokoučinkovitih destilacijskih kolona za uklanjanje vanadijuma. Prednost ove metode je u tome što ne zahtijeva upotrebu kemijskih reagensa, proces rafiniranja je kontinuiran i lak za automatizaciju, a odvojeni VOCl3 i VCl4 se mogu koristiti direktno. Nedostaci su velika potrošnja energije, velika ulaganja u opremu, te potreba za rješavanjem strukture kotlića velike snage, što još nije primijenjeno u industriji.
Osim toga, tačke smrzavanja dvije komponente TC4 cijev od legure titana-V0Cl3 serija su prilično različite, oko 54 stepena Celzijusa. Stoga se metoda kristalizacije zamrzavanjem može koristiti i za uklanjanje VOCI3. Međutim, smrzavanje troši mnogo energije, pa nije industrijsko primijenjeno. Iz tog razloga, hemijske metode se često koriste za uklanjanje vanadijuma. Hemijsko uklanjanje vanadijuma je dodavanje hemijskog reagensa u cijev od titanijuma da se selektivno smanji ili istaloži nečistoću VOCl3 (ili VCl4) kako bi se formiralo netopivo jedinjenje stipse koje stupa u interakciju sa TC4 cijevi od legure titana. Odvajanje je ili selektivna adsorpcija VoCl3 (ili VCl4) za odvajanje nečistoća vanadijuma i cijevi od legure titanijuma TC4 jedna od druge; ili selektivno otapanje VOCl2 da bi se odvojile nečistoće stipse i 7icld jedna od druge. Može se reći da još nije uspostavljen idealniji proces uklanjanja vanadijuma sa jednostavnom, dugotrajnom, jeftinom procesnom opremom, dobrim uslovima rada i lakom implementacijom kontinuiranih operacija. Ovo je također tema koju treba proučiti u procesu rafiniranja cijevi od legure titana TC4.
